杨杰在得知黄明超等人研发的极紫外光光刻机对波长在12纳米的光源十分敏感，心中也是诧异了一下。

在前世的时候，艾斯摩尔公司研制的极紫外光光刻机的波长控制在13.5纳米，这主要是因为光刻胶的原因，这主要是因为光刻胶的配方主要是掌握在住友、toK、陶氏等少数几家公司手里，配方自然是又他们来决定的。

而黄明超他们配方不一样，自然对极紫外光光源不同的波长有着不一样的光化学效应。

之前黄明超他们来做实验主要是用扫描隧道显微镜来观察光刻胶对光源照射剂量反应后的情况，并不能实时地观察到这个反应过程，这样黄明超他们只能是不停靠着试错的方式来调整配方。

现在有了这个神光光源设施后，通过利用光源光束脉冲性质拍摄一系列的快照，这些快照聚集起来，随时间的推移，可以形成一个样品变化的动态图像。

这个就是神光光源设施仪器设备的时间分辨技术，有了这套技术设备可以清楚地观察到光刻胶在光源照射时的各种反应情况，可以让黄明超他们可以更快地分析判断光刻胶具体的性能，从而为配方的调整方向有了非常明确的目标，可以大大地缩短研发时间。

现在因为国内的主要的晶圆厂很大一部分都是使用华兴半导体材料公司的光刻胶产品，光是光刻胶这一个业务也是给半导体材料公司每年都带来巨大的利润，所以也足够支撑公司在这方面的研发。

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