华兴集团公司六年多前就开始涉足光刻机，何玉光和席海清数位专家在杨杰的带领下一开始是进行仿造和组装，随后是几乎孤注一掷地研发浸没式步进扫描投影光刻机，随着华兴集团公司在超精密机制造技术、光学技术上和其他方面的全面进步，瑞星科技公司在氟化氩准分子光源的浸没式步进扫描投影光刻机上面终于是技术成熟了。

瑞星科技公司在双工件台浸没式步进扫描光刻机研发过程中是申请了大量的技术专利。

这些技术专利就包括了瑞星科技公司的独家悬浮工件台系统，使得系统能克服摩擦系数和阻尼系数，加工速度和精度是超越机械式和气浮式工件台的。

瑞星科技公司双工件台系统做出来的时间比艾斯摩尔公司还要提前一年，两家在这方面的技术路线很相似，这方面两家都算是做到了世界一流。

这些年何玉光带领着技术队伍一点点将浸没式光刻机大量的技术工程难题一个个的攻克了，申请了大量的技术专利，基本上将其他公司进入浸没式光刻机的技术道路给堵死了，也培养出了一支数百人的核心技术团队。

艾斯摩尔公司和佳能、尼康等公司看到瑞星科技公司申请了这么多的技术专利，要想绕过去是非常困难的，这些公司也是努力地研发波长在157纳米光源的设备。

不过艾斯摩尔推出157纳米光源的干式光刻机最大制程工艺只能做到70纳米，而瑞星科技公司推推出的氟化氩光源光刻机极限制程工艺可以做到28纳米！

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